Сканирующая зондовая микроскопия является одним из основных методов анализа и модификации поверхности подложки, который широко используется в области нанотехнологий, при проведении научных исследований физических и химических свойств объектов с высоким пространственным разрешением. Проведен анализ существующих литографических методов профилирования поверхности подложки. Представлены результаты экспериментальных исследований по разработке методики изготовления зондов для электрохимической сканирующей туннельной микроскопии. Показано, что использование разработанной методики позволяет получать зонды с радиусом закругления менее 50 нм, применение которых позволило проводить осаждение наноразмерных структур меди на поверхности подложки золота методом электрохимической сканирующей туннельной микроскопии. Полученные результаты могут быть использованы при разработке технологических процессов формировании наноразмерных структур, элементов наноэлектроники и наносистемной техники.
Scanning probe microscopy is one of the main methods of analysis and modification of the substrate surface, which is widely used in the field of nanotechnology, the conduct of scientific research on the physical and chemical properties of objects with high spatial resolution. We will drive through the analysis of existing lithographic methods of profiling the substrate surface. Results of experimental researches of a technique development of probes manufacturing for electrochemical scanning tunneling microscopy are presented. It is shown that use of the developed technique allows to receive probes with tip radius less than 50 nm which application has allowed to spend deposition of copper nanostructures on a gold substrate surface by electrochemical scanning tunnel microscopy method. The received results can be used by development of technological processes of nanoelectronics and nanosystems elements structures formation.
1. Зондовая фотонно-стимулированная нанолитография структур на основе пленки титана / О.А. Агеев, Б.Г. Коноплев, В.А. Смирнов и др. // Микроэлектроника. – 2007. – Т. 36. – № 6. – С. 403–408.
2. Получениe наноразмерных структур на основе нанотехнологического комплекса НАНОФАБ НТК-9 / О.А. Агеев, А.С. Коломийцев, В.А. Смирнов и др. // Известия Южного федерального университета. Технические науки. – 2011. – Т. 114. – № 1. – С. 109–116.
3. Фотоактивация процессов формирования наноструктур методом локального анодного окисления пленки титана / О.А. Агеев, Б.Г. Коноплев, В.А. Смирнов и др. // Известия высших учебных заведений. Электроника. – 2010. – № 2 (82). – С. 23–30.
4. Асеев А.Л. Нанотехнологии в полупроводниковой электронике. – Новосибирск: Изд-во СО РАН, 2004. – 368 с.
5. Коноплев Б.Г., Агеев О.А. Элионные и зондовые нанотехнологии для микро- и наносистемной техники // Известия Южного федерального университета. Технические науки. – 2008. – Т. 89. – № 12. – С. 165–175.
6. Dawn A.B. Scanning probe microscopy and spectroscopy: theory, techniques, and applications / 2 nd ed. Willey-Vich, 2001. – 493 p.
7. Said R.A. Microfabrication by localized electrochemical deposition: experimental investigation and theoretical modeling // Nanotechnology. – 2003. Vol. 14. – P. 523–531